被惊呆了，佳能不用光刻技术就能造 5nm 芯片。网友惊讶佳能怎么不专注相机，反而去搞芯片？

事实上，佳能一直以来都在芯片制造设备方面有所布局，而尼康也不例外。然而，光刻机的顶级技术一直被ASML垄断，佳能一直无法迎头赶上。

因此，佳能在研究光刻机的同时，也开始探索另一种方法：纳米压印。有人说'光刻机即将被取代，纳米压印战未来'，'ASML这下要慌了，被换赛道超车了'，各种争论让人们充满期待，光刻机真的要被淘汰掉吗？

首先，光刻机的发展已经逐渐走到了瓶颈期，芯片制程的进步速度也明显放缓。相比之下，发展才二十多年的纳米压印技术进展迅速，几年内就快要赶上光刻机的进度。而且，与光刻机相比，新的纳米压印技术不仅成本降低，制造工艺也更简单，更适合大规模生产。

举个例子来说，用光刻技术制造芯片，总成本中光刻步骤就要占三分之一，并且时间成本占总成本的一半。而纳米压印技术可以省掉近三成的成本，如果晶圆吞吐量再提高一点，甚至可以节省一大半的成本。

此外，纳米压印技术的工艺非常简单，就像盖章一样容易操作。纳米压印的原理与盖章类似，只是微缩版。制造过程包括两步：首先，在刻好电路的底板上喷涂纳米压印印章所需的材料，等凝固后就形成纳米压印的印章；然后，在晶片上喷涂一层纳米压印胶，直接印上印章，等待凝固后脱模即可。

在制造印章和盖章过程中，不需要更换工具，一个喷头就能完成，只需要更换材料。相比之下，光刻技术需要庞大的透镜阵列来控制光线，还需要产生极短波长的极紫外光，能耗巨大。

因此，纳米压印技术集能耗小、工艺简单、设备轻便等优点于一身，纳米压印技术已经发展出了多种分支，包括热压印、紫外压印和微接触压印。

其中，紫外压印在芯片制造中得到广泛应用，在紫外光的照射下，压印胶很容易凝固脱模。根据固化方式、压印面积等不同分类，还有许多不同的工艺。纳米压印技术既可以用于芯片制造，也适用于LED、OLED和AR设备等领域。

有人认为它可能取代EUV光刻技术，事实是不可能。纳米压印首先就绕不开光刻技术，它俩的关系并不是非此即彼，与其说纳米压印技术取代光刻机，不如说纳米压印是光刻技术的延伸。

随着智能电子设备在我们的生活中扮演越来越重要的角色，防止静电干扰对电子元器件造成的潜在威胁变得至关重要。深圳市晶扬电子公司提供的ESD（Electrostatic Discharge）保护器件，以其低容值、小封装和低钳位电压等特性，成为手机、电脑、平板和机顶盒等设备的USB和HDMI高速接口的可靠防护之选。

电子元器件的重要性： 电子设备中的电子元器件，如半导体器件、传感器、集成电路、二极管、晶体管、电容器、电阻器、电感器、晶振、电子连接器、开关、电源器件等，构成了设备的核心。它们的性能和可靠性直接关系到设备的稳定运行。

ESD保护器件的关键作用： 静电放电（ESD）是一种常见的威胁，可能对电子设备造成电流、电压和静电干扰。晶扬电子的ESD保护器件在此起到了关键作用，通过低容值、小封装和低钳位电压的设计，可有效地保护设备免受ESD的威胁。

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